अर्धचालक उत्पादन के लिए फोटोलिथोग्राफी सिस्टम की अग्रणी निर्माता एएसएमएल ने शुक्रवार को नीदरलैंड के वेल्धोवेन स्थित मुख्यालय में अपने नवीनतम नवाचार, $350 मिलियन की “हाई एनए ईयूवी” मशीन का प्रदर्शन किया। डबल डेकर बस के आकार का यह नया टूल, 125 बिलियन डॉलर के बाजार में ASML के प्रभुत्व को बनाए रखने में केंद्रीय भूमिका निभाने के लिए तैयार है।
“हाई एनए ईयूवी” मशीन, जिसे विशेष रूप से इंटेल जैसे शीर्ष अर्धचालक उत्पादकों के लिए डिज़ाइन किया गया था, पहली बार प्रस्तुत किया गया था। ASML वर्ष के भीतर इनमें से कई इकाइयों का उत्पादन और शिप करने की तैयारी कर रहा है, हालांकि सटीक संख्या अभी तक निर्दिष्ट नहीं की गई है। कंपनी ने इस बात पर प्रकाश डाला कि नए उपकरणों के लिए अनुकूलन और स्थापना पर काम चल रहा है।
ASML के प्रवक्ता मोनिक मोल्स ने नई मशीन को निर्माण प्रणाली में एकीकृत करने की जटिलता पर जोर दिया। “हम इंजीनियरिंग और विकास करते रहते हैं, और इसे कैलिब्रेट करने और यह सुनिश्चित करने के लिए कि यह विनिर्माण प्रणाली में फिट बैठता है, बहुत काम किया जाना बाकी है,” उसने कहा। “हमारे और हमारे ग्राहकों के लिए सीखने की एक कठिन अवस्था भी है।”
ASML की तकनीक बाजार में अद्वितीय है, क्योंकि यह चरम पराबैंगनी (EUV) फोटोलिथोग्राफी मशीनों का एकमात्र उत्पादक है, जो सबसे उन्नत चिप्स बनाने के लिए आवश्यक हैं। “हाई एनए ईयूवी” इस तकनीक की अगली पीढ़ी का प्रतिनिधित्व करता है। हालांकि, इन उपकरणों से जुड़ी उच्च लागतों के कारण ग्राहकों द्वारा गोद लेने की दर अनिश्चित बनी हुई है।
सेमीएनालिसिस के जेफ कोच ने बताया कि कुछ चिपमेकर प्रतिस्पर्धा में बढ़त हासिल करने के लिए नई तकनीक का उपयोग करना शुरू कर सकते हैं, लेकिन बहुसंख्यकों से यह उम्मीद की जाती है कि वे आर्थिक रूप से व्यवहार्य होने तक इंतजार करेंगे। उन्होंने भविष्यवाणी की है कि पुरानी तकनीक से संक्रमण 2030-2031 के आसपास लागत प्रभावी हो जाएगा। उनके विश्लेषण के अनुसार, इसके परिणामस्वरूप 2027-2028 में फैक्ट्री रैंप-अप और अगले वर्षों में इसे व्यापक रूप से अपनाने के बीच ASML के लिए अतिरिक्त क्षमता हो सकती है।
ASML के CEO, पीटर वेनिंक ने पहले कहा है कि उद्योग “हाई NA EUV” तकनीक की क्षमता को कम करके आंका जा सकता है। वेनिंक ने जनवरी में कहा, “वर्तमान में हम अपने ग्राहकों के साथ चर्चा में जो कुछ भी देख रहे हैं, वह यह है कि हाई एनए सस्ता है।”
ASML के हाई NA उत्पाद प्रबंधन के प्रमुख, ग्रीट स्टॉर्म्स ने संकेत दिया कि 2026-2027 के आसपास एक महत्वपूर्ण बदलाव की उम्मीद है, जब ग्राहकों द्वारा नए टूल के साथ वॉल्यूम उत्पादन शुरू करने की संभावना है। इंटेल को पहले ही एक पायलट डिवाइस मिल चुका है और अगले साल उत्पादन शुरू करने की योजना है, हालांकि ऑपरेशन के पैमाने का खुलासा नहीं किया गया है। TSMC और Samsung ने भी टूल का उपयोग करने के इरादे व्यक्त किए हैं, लेकिन विशिष्ट समयसीमा प्रदान नहीं की है।
आज तक, एएसएमएल को 10 से 20 ऑर्डर मिले हैं, जिसमें मेमोरी विशेषज्ञ एसके हाइनिक्स और माइक्रोन के लिए पायलट डिवाइस शामिल हैं। कंपनी 2028 तक सालाना 20 यूनिट तक पहुंचाने की क्षमता का निर्माण कर रही है। विशेष रूप से, देश में अत्याधुनिक तकनीक के निर्यात को सीमित करने के संयुक्त राज्य अमेरिका के प्रयासों के कारण, इनमें से कोई भी उन्नत मशीन पिछले साल ASML के दूसरे सबसे बड़े बाजार चीन को नहीं बेची जाएगी।
चीन को बिक्री पर प्रतिबंध के बारे में चिंताओं के बावजूद, ASML ने पिछले महीने एक मजबूत ऑर्डर बुक की सूचना दी, जिससे निवेशकों की चिंताओं को कम करने में मदद मिली। “हाई एनए ईयूवी” मशीन को तेजी से अपनाने से एएसएमएल की बिक्री और मार्जिन बढ़ सकता है, जिससे लिथोग्राफी सिस्टम में इसके बाजार नेतृत्व को और मजबूत किया जा सकता है। ये सिस्टम सिलिकॉन वेफर्स पर पैटर्न ट्रेस करने के लिए महत्वपूर्ण हैं जो कंप्यूटर चिप्स की सर्किटरी बन जाते हैं।
ASML का दावा है कि नया टूल चिपमेकर्स को सबसे छोटी चिप सुविधाओं के आकार को 40% तक कम करने में सक्षम करेगा, जिससे संभावित रूप से ट्रांजिस्टर का घनत्व तीन गुना हो जाएगा। कंपनी पुरानी पीढ़ी के चिप्स के लिए लिथोग्राफी मशीनों के उत्पादन के लिए Nikon और Canon के साथ प्रतिस्पर्धा करती है, लेकिन EUV लिथोग्राफी टूल की मार्केटिंग करने वाली पहली और एकमात्र फर्म होने की इसकी अनूठी स्थिति है।
“हाई एनए ईयूवी” मशीन प्रति सेकंड 50,000 बार की अविश्वसनीय दर से ट्विन लेजर पल्स का उपयोग करके टिन की बूंदों के वाष्पीकरण के माध्यम से ईयूवी प्रकाश बनाकर संचालित होती है। नई मशीन में सबसे महत्वपूर्ण बदलाव इसका बड़ा ऑप्टिकल सिस्टम है, जिसमें कार्ल ज़ीस द्वारा निर्मित जटिल आकार के दर्पण शामिल हैं। ये दर्पण, बेहद आसानी से पॉलिश किए जाते हैं और वैक्यूम में रखे जाते हैं, जो अपने पूर्ववर्तियों की तुलना में अधिक प्रकाश एकत्र करते हैं और फ़ोकस करते हैं। “हाई एनए” शब्द उच्च संख्यात्मक एपर्चर को संदर्भित करता है, जिसे एएसएमएल बताता है कि बेहतर रिज़ॉल्यूशन होता है।
रॉयटर्स ने इस लेख में योगदान दिया।
यह लेख AI के समर्थन से तैयार और अनुवादित किया गया था और एक संपादक द्वारा इसकी समीक्षा की गई थी। अधिक जानकारी के लिए हमारे नियम एवं शर्तें देखें।