ASML, एक प्रमुख डच सेमीकंडक्टर उपकरण निर्माता, ने अपने अभिनव हाई NA EUV लिथोग्राफी सिस्टम के साथ “फर्स्ट लाइट” के रूप में जाना जाने वाला एक महत्वपूर्ण मील का पत्थर हासिल किया है। बुधवार को घोषित की गई यह उपलब्धि बताती है कि नई प्रणाली चालू है, हालांकि यह अभी तक पूरी क्षमता से प्रदर्शन नहीं कर रही है।
मंगलवार को सैन जोस में आयोजित SPIE लिथोग्राफी सम्मेलन में एक प्रस्तुति के दौरान इंटेल में प्रौद्योगिकी विकास के प्रमुख एन केलेहर द्वारा विकास को शुरू में साझा किया गया था। केलेहर की बात के बाद, ASML ने अपने हाई NA EUV टूल की प्रगति के बारे में अपने कथनों की सटीकता की पुष्टि की।
हाई एनए ईयूवी लिथोग्राफी सिस्टम सेमीकंडक्टर निर्माण प्रौद्योगिकी में एक बहुप्रतीक्षित प्रगति है, क्योंकि इससे छोटे, अधिक शक्तिशाली चिप्स के उत्पादन को सक्षम करने की उम्मीद है। शब्द “फर्स्ट लाइट” टूल का उपयोग करके किसी छवि के पहले सफल प्रक्षेपण को संदर्भित करता है, जो सिस्टम की कार्यक्षमता को मान्य करने में एक महत्वपूर्ण कदम है।
ASML द्वारा इस चरण तक पहुँचने की पुष्टि उच्च NA EUV प्रणाली के विकास में एक महत्वपूर्ण क्षण है, जो इसे अंतिम पूर्ण पैमाने पर उत्पादन उपयोग के करीब लाती है।
रॉयटर्स ने इस लेख में योगदान दिया।
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